Dania – Maszyny i aparatura badawcza i pomiarowa – One Photonic Wafer Probe Station and one Photonic Assembly Station

Ta przetarg dotyczy planowanego przez DTU Nano zakupu stacji montażowej fotonicznej i stacji do badania płyt fotonicznych. Przetarg podzielono na dwa loty – po jednym dla każdej ze stacji. Uczestnicy przetargu mogą zdecydować się na składanie ofert na jeden lub oba loty, które będą oceniane i przyznawane indywidualnie. Stacja montażowa służy do połączenia układów włókiennych (FAUs) z czipem optycznym. Typ połączenia będzie połączeniem krawędziowym z użyciem pętli przewodów falowych do wyśrodkowania, ale jeśli będzie to konieczne, wyśrodkowanie można również wykonać za pomocą źródła światła na czipie (jeśli istnieje) lub za pomocą zewnętrznego źródła światła i połączenia dwóch FAUs, po jednym z każdej strony czipa. Głównym zadaniem maszyny jest montaż i przyczepianie włókien do fotonicznych czipów. System powinien wspierać badania, prototypowanie, rozwój procesów, produkcję pilotażową i produkcję w małych ilościach w zaawansowanej fabryce DTU Nano. DTU prowadzi działalność w obszarach fotoniki krzemowej (SiPh), fotonicznych układach scalonych (PICs), optycznych transcewerach, modułach laserowych, fotodetektorach, złożeniach włókien optycznych, optyce pakowanej wspólnie i urządzeniach fotonicznych kwantowych, których chcemy wspierać w najlepszy możliwy sposób. DTU zamierza więc zakupić maszynę, która będzie przestawialna, elastyczna, wielofunkcyjna. Celem stacji do badania płyt fotonicznych jest charakteryzacja jakości fotonicznych układów scalonych (PICs). Powinno być możliwe charakteryzowanie zarówno optycznych, jak i elektrycznych parametrów. W przypadku charakteryzacji optycznej główną techniką wychodzenia/wejścia będzie przez gratki, ale wyposażenie powinno być możliwe do skonfigurowania również do połączenia krawędziowego z fasetami komponentów w rowku na płytce. W tym przypadku mogą być potrzebne różne podpory i włókna. Charakterystyki elektryczne należy charakteryzować zarówno w DC, jak i RF do 40 GHz za pomocą sondy lub kart sondowych. System powinien wspierać badania, rozwój, kwalifikację procesów i rutynowe charakteryzacje w zaawansowanej fabryce DTU Nano.