Francja – Urządzenia elektromechaniczne – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

CEA Leti, w ramach swoich działań badawczych, których celem jest rozwój technologii FDSOI 10nm i dalej (FDSOI10), chce zakupić urządzenie do trawienia FEOL/MEOL dla swojej czystej sali. Urządzenie będzie mogło przetwarzać wafery o średnicy 300mm i umożliwić wysokoselektywne i izotropowe trawienie krzemu (Si) i krzemu-germanu (SiGe). W skład urządzenia wchodzą następujące obowiązkowe opcje: - Opcja 1: Process 7 (trawienie spacer SiCO) - Opcja 2: Process 8 (trawienie spacer i SADP) - Opcja 3: Utwórz poziom 1 obsługi. Ponadto koszty opcji na wybór: - Opcja 4: Wymienniki ciepła (Heat exchangers) i systemy chłodzenia (chillers) (Rozdz. 3.2.6) - Opcja 5: Transformator elektryczny (Power supply transformer) (Rozdz. 4.1.4) - Opcja 6: Zaawansowane szkolenie obsługi (Rozdz. 9) - Opcja 7: Usługi konserwacji profilaktycznej, naprawczej i niezbędne części zamienne (Rozdz. 12.2)