Suécia – Equipamento laboratorial, óptico e de precisão (exc. óculos) – Electron Beam Lithography (EBL) Tool

A Universidade de Lund, Departamento de Física, Lund Nano Lab está adquirindo um Equipamento de Litografia por Feixe de Elétrons. O instrumento é destinado a padronização de alta resolução e repetível, equipado com um grande campo de escrita para padronização de alto rendimento e rotinas de auto-calibração automatizadas para suportar longas exposições com mínimos erros devido ao desvio do feixe. Finalmente, seu sistema de carregamento de amostras flexível deve ser configurado para uma ampla gama de amostras, desde pequenas peças usadas para ciência básica, ou wafers até 8" de diâmetro para testes de produção piloto. Com essas propriedades, o Equipamento de Litografia por Feixe de Elétrons tornará-se uma parte central da infraestrutura de fabricação do Lund Nano Lab e suportará uma gama de aplicações como dispositivos quânticos, eletrônica de alta potência, metassuperfícies e mais. Além do instrumento, a licitação deve incluir todos os custos associados, como garantia, embalagem, seguro, instalação no local, comissionamento, FAT, SAT, direitos e transporte, treinamento, documentação, suporte, desenvolvimento/atualizações de software, encargos conforme o Ordinance on Producer Responsibility for Packaging (2022:1274), etc.