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Alemanha – Máquinas e aparelhos microelectrónicos e microssistemas – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieAlemanhaPublicado em 24 de mar. de 2026
Sem prazo definido
AlemanhaDescrição
Fabricação, distribuição e serviço de equipamentos de gravação a plasma (RIE/ICP-RIE) para micro e nano-fabricação. Mais detalhes podem ser encontrados no caderno de encargos.
Códigos CPV
Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
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