Países Baixos – Equipamento laboratorial, óptico e de precisão (exc. óculos) – European Tender Electron Beam Lithography system

A Universidade de Twente está a lançar um concurso público para a aquisição de um sistema de Litografia por Feixe de Electrões. O Instituto MESA+ da Universidade de Twente investirá num novo sistema de feixe de electrões (sistema e-beam). Um sistema adequado para definir padrões em resistências sensíveis a electrões, com alta resolução e alta velocidade, compatível com uma ampla gama de aplicações e tipos de substrato até 200 mm de diâmetro. O sistema será utilizado por uma ampla gama de utilizadores, ou seja, investigadores académicos e estudantes, bem como engenheiros industriais com diferentes formações (fotónica, (nano)-electrónica, etc.) e diferentes níveis de especialização.