Dinamarca – Máquinas e aparelhos para ensaios e medição – One Photonic Wafer Probe Station and one Photonic Assembly Station

Este concurso refere-se à aquisição planejada da DTU Nano de uma Estação de Montagem Fotônica e uma Estação de Sonda de Wafer Fotônico. O concurso está dividido em dois lotes – um para cada uma das duas estações. Os licitantes podem optar por licitar um ou ambos os lotes, que serão avaliados e adjudicados individualmente. A estação de montagem é para conectar unidades de matriz de fibras (FAUs) a um chip óptico. O tipo de conexão será acoplamento de borda usando laços de guias de ondas para alinhamento, mas, se necessário, o alinhamento também pode ser realizado usando a fonte de luz no chip (se existir) ou usando uma fonte de luz externa e conectando duas FAUs, uma de cada lado do chip. Portanto, o propósito principal da máquina é fazer a montagem e a fixação de fibras de chips fotônicos. O sistema deve suportar atividades de pesquisa, prototipagem, desenvolvimento de processos, fabricação piloto e produção em pequena escala nas instalações de fabricação avançada da DTU Nano. A DTU tem atividades em Fotonica de Silício (SiPh), Circuitos Integrados Fotônicos (PICs), Transceptores Ópticos, Módulos a Laser, Fotodetetores, Montagens de Fibra Óptica, Óptica Co-embalada e Dispositivos Fotônicos Quânticos, que pretendemos apoiar da melhor forma possível. A DTU pretende, portanto, adquirir uma máquina reconfigurável, flexível e versátil. O propósito da estação de sonda de wafer fotônico é caracterizar a qualidade dos circuitos integrados fotônicos (PICs). Deve ser possível caracterizar tanto o desempenho óptico quanto o elétrico. Para a caracterização óptica, a principal técnica de acoplamento em/saída será através de acopladores de grade, mas o equipamento deve ser possível de ser configurado também para acoplamento de borda a facetas de componentes em uma ranhura no wafer. Neste caso, podem ser necessários diferentes suportes e fibras. As características elétricas devem ser caracterizadas tanto em CC quanto em RF até 40GHz usando sondas e/ou cartões de sondas. O sistema deve suportar atividades de pesquisa, desenvolvimento, qualificação de processos e caracterização rotineira nas instalações de fabricação avançada da DTU Nano.