Espanha – Micromontagens e circuitos integrados electrónicos – Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

A contratação objeto do presente expediente é necessária para realizar a labor de investigação e desenvolvimento para a Pilot Line da UPV, com o objetivo de melhorar as linhas piloto avançadas existentes e desenvolver novas em toda a União, para permitir o desenvolvimento e o despliegue de tecnologias de semiconductores de vanguarda e tecnologias de semiconductores de próxima geração. A tal efeito, é necessário proceder à aquisição, entre outros, dos seguintes equipamentos:

4 • UPV04 - Electron beam lithography tool up to 8-inch wafers: Equipamento de litografia por feixe de elétrons que expõe padrões em resistências sensíveis mediante um feixe de elétrons focado e escaneado. Escreve características com resolução nanométrica conforme desenho em arquivo digital. Dedicado a patronado de nanofabricação, especialmente para máscaras e estruturas em fotônica, semicondutores e nanotecnologia.

• UPV13 – SEM: Equipamento de inspeção de superfícies mediante um feixe de elétrons focado que entrega imagens de resolução nanométrica. Permite obter informação morfológica e de contraste superficial, assim como contraste associado a diferenças de composição ou número atómico, em função dos detectores e modos de imagem disponíveis. Dedicado a metrologia, inspeção e validação de processo e controle de qualidade.

A idoneidade do equipamento fundamenta-se na sua capacidade para cobrir de forma conjunta os requisitos de patronagem e metrologia dedicada necessários para a fabricação em linha piloto de circuitos fotónicos integrados híbridos. Esta capacidade permite coordenar a definição de parâmetros de exposição e pontos de interesse para metrologia posterior, integrar a inspeção SEM externa pós-processo e assegurar a traçabilidade e coerência dos dados gerados durante o fluxo de fabricação.