Suécia – Máquinas industriais – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala pretende adquirir um Gravador Iônico de Reação Profunda (DRIE). O objetivo da ferramenta é transferir padrões definidos por, por exemplo, litografia por feixe de elétrons e de fótons, cobrindo a gama de tamanhos de padrões de todos os substratos até alguns nanómetros. O sistema será utilizado por muitos operadores em um ambiente de laboratório universitário. Deve ser fácil de usar e ser insensível à mudança frequente de processo entre lotes. Os processos incluem uma ampla gama de capacidades de gravação: de baixa a alta taxa de gravação, corte de wafer, alta uniformidade, alta área aberta, alta razão de aspecto e escala nanométrica. O sistema é destinado à gravação de silício, bem como de outros materiais compatíveis com a gravação de silício, com ambas as resinas de fotorresistência e máscaras duras para padronização.