Suécia – Máquinas industriais – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala tem como objetivo adquirir um Gravador Iônico de Reação Profunda (DRIE). O objetivo da ferramenta é transferir padrões definidos por, por exemplo, litografia por feixe de elétrons e de fotões, cobrindo a faixa de tamanho dos padrões de todo o intervalo de substrato até alguns nanómetros. O sistema será utilizado por muitos operadores em um ambiente de laboratório universitário. Deve ser fácil de usar e ser insensível à frequente mudança de processo entre lotes. Os processos incluem uma ampla gama de capacidade de gravação: taxa de gravação baixa a alta, corte de wafer, alta uniformidade, alta área aberta, alta relação de aspecto e escala nanométrica. O sistema é destinado à gravação de silício, bem como de outros materiais compatíveis com a gravação de silício, com resinas de fotoresistência e máscaras duras para padronização.