Alemanha – Equipamento laboratorial, óptico e de precisão (exc. óculos) – Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

A Ruhr-Universität Bochum pretende adquirir uma instalação de gravação DRIE, que será utilizada no laboratório de pesquisa de microeletrônica de Bochum para substratos de wafers com até 200 mm de diâmetro. Ela deve ser utilizada no campo dos sistemas microeletromecânicos (MEMS) baseados em silício para a gravação anisotrópica profunda de silício com base em um processo de gravação cíclica (DRIE, "Processo BOSCH") e, além disso, servir para a pesquisa de novos conceitos de gravação que utilizam gases de gravação menos prejudiciais ao clima.