Suíça – Equipamento laboratorial, óptico e de precisão (exc. óculos) – Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

A EPFL planeja, em estreita colaboração com a Universidade de Genebra (UNIGE), a aquisição de uma instalação de deposição por sputtering de alta tecnologia, especialmente concebida para a produção de camadas finas suprcondutoras de alta qualidade. A instalação será instalada e operada no EPFL Center of MicroNanotechnology (EPFL CMi). O CMi é uma instalação centralizada para a micro e nanofabricação que serve a todas as faculdades da EPFL e está aberta a universidades externas e parceiros industriais locais (mais de 600 usuários ativos por ano). A nova instalação será utilizada para pesquisa de ponta no campo de detectores de fótons únicos, com o objetivo de reduzir a lacuna entre a produção de laboratório e a produção industrial, permitindo a deposição em wafers com um diâmetro de 200 mm. Particular atenção será dada não só à qualidade das deposições e às propriedades suprcondutoras das camadas finas, mas também à facilidade de uso da instalação, à sua rápida e fácil incorporação para novos usuários, bem como à sua capacidade flexível, mas robusta, de controle de processo em um ambiente de P&D. Igualmente importante é a proximidade e a reatividade do fornecedor em termos de suporte técnico e assistência ao processo. Em conformidade com os requisitos da EPFL, bem como com os objetivos científicos do CMi e da UNIGE, será dada especial atenção aos seguintes pontos: ● Qualidade, reprodutibilidade e uniformidade das camadas finas suprcondutoras. ● Integração com nossas infraestruturas.