Sări la conținut
Înapoi la căutare

Germania – Maşini şi aparate microelectronice şi microsisteme – Reactive ion etcher

Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieGermaniaPublicat pe 24 mar. 2026
Nu este dată deadline

Descriere

Fabricarea, distribuția și serviciul de instalații de gravură cu plasma (RIE/ICP-RIE) pentru micro- și nanofabricare. Detaliile mai precise le puteți găsi în specificațiile tehnice.

Coduri CPV

Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)

Documente și transmitere

Rezumat AI
Conectează-te pentru un rezumat AI

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Achiziții similare