Spania – Maşini şi aparate microelectronice şi microsisteme – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Acest raport are ca scop justificarea necesității și idoneității contractării furnizării, instalării, punerii în funcțiune, validării și formării asociate unui sistem de litografie prin scriere directă cu laser (Direct Laser Writing, DLW), conform articolului 28 al Legii 9/2017, din 8 noiembrie, privind Contractele Sectorului Public (LCSP), prin care se transpun în dreptul internațional al Spaniei Directivele Parlamentului European și ale Consiliului 2014/23/UE și 2014/24/UE, din 26 februarie 2014, precum și în prevederile concordante care cer elaborarea unui raport de insuficiență a mijloacelor, necesitate și idoneitate a contractului, cu caracter prealabil începând cu procesul de contractare. Echipamentul va fi destinat Infraestructurii Științifice și Tehnice Singulare (ICTS) MICRONANOFABS, rețea națională a camerelor albe de micro și nanofabricare integrată în Harta Națională a ICTS a Ministerului competent în materie de știință, din care face parte Infraestructura de Micro și Nano Fabricare a Centrului de Tehnologie Nanofotonică (NTC) al Universității Politehnice din Valencia (UPV), împreună cu Centrul Național de Microelectronică (CSIC) și Centrul de Tehnologie al ISOM (UPM). Instalarea se va afla în Camera Albă a clădirii 8F a NTC-UPV. Centrul de Tehnologie Nanofotonică își desfășoară activitățile de cercetare și fabricare în domeniile fotonicii integrate, nanotecnologiei, biosensorice, microopticii și sistemelor microfluide. Printre dispozitivele fabricate în mod obișnuit se numără circuitele fotonice integrate (PICs), biosenzoarele fotonice, nanoantenele, rezonatoarele optice, cristalul fotonic, elementele optice difractive, metalentele și microlentele, structurile tridimensionale obținute prin litografie Gray Scale, dispozitivele MEMS, sistemele microfluide, precum și încapsularea și componentele fotonice hibride. Aceste dispozitive necesită combinarea proceselor de fabricare cu rezoluții nanometrice și micrometrice, niveluri ridicate de precizie geometrică, aliniere multicapă și o productivitate ridicată care să permită fabricarea dispozitivelor complete și a obleelor în timpuri compatibile cu activitatea de cercetare și prestarea serviciilor tehnologice. Astfel, este necesară achiziționarea unui sistem de litografie care să ofere simultan o rezoluție ridicată, o viteză mare de scriere, stabilitate mecanică, precizie de poziționare și versatilitate pentru a lucra pe o gamă largă de materiale și dimensiuni ale substratului. Ca ICTS integrată în rețeaua MICRONANOFABS, NTC-UPV oferă servicii de micro și nanofabricare grupurilor de cercetare naționale și internaționale, precum și companiilor, în cadrul proiectelor competitive, contractelor de transfer de tehnologie și prestării serviciilor avansate. Echipamentul va face parte din infrastructura științifică a centrului și va fi utilizat pentru dezvoltarea proiectelor de cercetare naționale și internaționale, contractele de transfer de tehnologie cu companii și prestarea serviciilor de fabricare utilizatorilor interni și externi. Această condiție de infrastructură singulară de utilizare comună impune menținerea unui dotat instrumental actualizat, robust și performant, în linie cu obiectivele PERTE Chip pentru întărirea capacităților naționale de microelectronică și fotonică. Contractarea este, prin urmare, necesară pentru îndeplinirea și realizarea scopurilor instituționale ale ICTS MICRONANOFABS-NTC, neexistând mijloace proprii adecvate, suficiente și disponibile pentru a satisface această necesitate, în termenii prevăzuti de articolul 28 LCSP.