Suedia – Echipamente industriale – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala are înscris să cumpere un Etcher cu Ion Reacție Profundă (DRIE). Scopul instrumentului este de a transfera modele definite prin, de exemplu, litografie cu fascicul de fotoni și de electroni, acoperind gama de mărimi a modelului de la toată gama de substraturi până la câteva nanometri. Sistemul va fi utilizat de mulți operatori într-un mediu de laborator universitar. Trebuie să fie ușor de utilizat și să fie insensibil la schimbarea frecventă a procesului între loturi. Procesele includ o gamă largă de capacități de etsare: de la viteză de etsare scăzută la înaltă, tăierea de plăci, uniformitate înaltă, suprafață deschisă înaltă, raport înalt de aspect și scara nanometrică. Sistemul este destinat etsării de siliciu, precum și a altor materiale compatibile cu etsarea de siliciu, cu ambele rezine de fotorezist și masca dură pentru modelare.