Suedia – Echipamente industriale – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala are văzând să cumpere un Etcher cu Ion Reacție Profundă (DRIE). Scopul instrumentului este de a transfera modele definite de, de exemplu, litografia cu fascicul de fotoni și fascicul de electroni, acoperind gama de dimensiuni a modelelor de la toată gama de substraturi până la câteva nanometri. Sistemul va fi utilizat de mulți operatori într-un mediu de laborator universitar. Trebuie să fie ușor de utilizat și să fie insensibil la schimbarea frecventă a procesului între loturi. Procesele includ o gamă largă de capacități de gravură: de la rată de gravură scăzută la rată de gravură ridicată, decuparea plăcilor, uniformitatea ridicată, aria deschisă ridicată, raportul de aspect ridicat și scara nanometrică. Sistemul este destinat gravării de siliciu, precum și a altor materiale compatibile cu gravarea de siliciu, cu rezine de fotorezist și masti dure pentru modelare.