Germania – Echipamente de laborator, optice şi de precizie (cu excepţia ochelarilor) – Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

Ruhr-Universität Bochum intenționează să achiziționeze o instalație de gravură DRIE care va fi folosită în laboratorul de cercetare Mikroelektronik Bochum pentru substraturi de wafer până la 200 mm diametru. Aceasta va fi folosită în domeniul sistemelor microelectromecanice bazate pe siliciu (MEMS) pentru gravura anizotropă profundă a silicilui pe baza unui proces ciclic de gravură (DRIE, "procesul BOSCH") și, de asemenea, va servi cercetării noilor concepte de gravură care utilizează gaze de gravură mai puțin nocive pentru climat.