Španielsko – Mikroelektronické stroje a prístroje a mikrosystémy – Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

Tím sa destinuje na Vedeckú a technickú singularnú infraštruktúru (ICTS) MICRONANOFABS, španielsku sieť čistých miest pre mikro a nanofabrikačnú integráciu v Národnom mape ICTS Ministerstva zodpovedného za vedy, ktorého súčasťou je Infraštruktúra mikro a nanofabrikačného centra Technologického centra nanofotoniky (NTC) Univerzity Politècnica de València (UPV), spolu s Národným centrom mikroelektroniky (CSIC) a Technologickým centrom ISOM (UPM). Inštalácia sa nachádza v Čistom mieste budovy 8F NTC-UPV. Technologické centrum nanofotoniky vyvíja procesy výroby integrovaných fotonických zariadení, biosenzorov, komponentov integrálnej optiky, kvantových zariadení, mikroelektromechanických systémov (MEMS), mikrofluidických štruktúr a nanofotonických systémov na širokej škale materiálov, vrátane kremíka, kremíkového nitridu, skla, kvarcu, materiálov III-V, dielektických materiálov a hybridných štruktúr. Ako ICTS integrovaná v sieti MICRONANOFABS poskytuje NTC-UPV služby mikro a nanofabrikačného procesu výskumným skupinám na národnej a medzinárodnej úrovni, ako aj podnikom v rámci konkurzných projektov, zmlúv o technologickom prenose a poskytovaní pokročilých služieb. Táto podmienka singularnej infraštruktúry spoločného použitia vyžaduje, aby bola vybavená aktualizovaným, robustným a výkonným nástrojom, ktorý umožňuje odpovedať na vlastné výskumné línie, ako aj na externú požiadavku vedeckej a priemyselnej komunity, v súlade s cieľmi PERTE Chip na posilnenie národných kapacít v oblasti mikroelektroniky a fotoniky. Veľa zariadení, ktoré sa vyrábajú v infraštruktúre, vyžaduje procesy fyzického gravírovania s vysokou presnosťou na materiály, pre ktoré konvenčné chemické gravírovacie procesy (mokré) neposkytujú potrebnú povrchovú kvalitu, anizotropiu alebo selektivitu. Okrem toho, rastúca komplexnosť vyvíjaných zariadení vyžaduje disponovať procesmi s vysokou reprodukovateľnosťou, s presným kontrolovaním uhlu dopadu lúča, vysokou stabilitou procesu, automatizáciou a nepretržitým monitorovaním.