Španielsko – Mikroelektronické stroje a prístroje a mikrosystémy – Suministro de sistema de litografía por escritura directa mediante láser (Direct Laser Writing, DLW)

Tento spravodajstvo má za cieľ zdôvodniť potrebu a vhodnosť zmluvy na dodávku, inštaláciu, spustenie, validáciu a výcvik, ktorý je spojený so systémom litografie priamo laserovým písaním (Direct Laser Writing, DLW) podľa ustanovení článku 28 Zákona č. 9/2017, z 8. novembra 2017, o zmluvách verejného sektora (LCSP), ktorým sa do právneho poriadku Španielska prekladajú smernice Európskeho parlamentu a Rady 2014/23/UE a 2014/24/UE, z 26. februára 2014, ako aj v súlade s predošlými ustanoveniami, ktoré vyžadujú vypracovanie správy o nedostatku prostriedkov, potrebe a vhodnosti zmluvy pred začatím konania o zmluvách. Zariadenie bude určené pre Vedeckú a technickú infraštruktúru singularitu (ICTS) MICRONANOFABS, španielsku sieť čistých miest pre mikro a nanofabrikáciu, ktorá je súčasťou Nacionálneho mapy ICTS Ministerstva zodpovedného za vedu, ktorého súčasťou je Infraštruktúra mikro a nanofabrikácie Centra nanofotonovej technológie (NTC) Univerzity Politècnica de València (UPV), spoločne s Národným centrom mikroelektroniky (CSIC) a Centrom technológií ISOM (UPM). Inštalácia sa bude nachádzať v čistom priestore budovy 8F NTC-UPV. Centrum nanofotonovej technológie vykonáva výskumné a výrobné činnosti v oblastiach integrovanej fotoniky, nanoteknológie, biosenzoriky, mikrooptiky a mikrofluidických systémov. Medzi zariadenia, ktoré sa bežne vyrábajú, patria integrované fotonické obvody (PICs), fotonické biosenzory, nanoantény, optické rezonátory, fotonické krystaly, difrakčné optické prvky, metalenzy a mikrolenzy, trojrozmerné štruktúry získané pomocou Gray Scale litografie, MEMS zariadenia, mikrofluidické systémy a fotonické hybridné komponenty a obaly. Tieto zariadenia vyžadujú kombináciu výrobných procesov s nanometrickými a mikrometrickými rozlíšeniami, vysokými úrovňami geometrickej presnosti, viacvrstvovým zarovnávacím a vysokou produktivitou, ktorá umožňuje vyrobiť kompletné zariadenia a obleky v čase, ktorý je kompatibilný s výskumnou činnosťou a poskytovaním technologických služieb. Preto je potrebné nakúpiť systém litografie, ktorý zároveň poskytuje vysoké rozlíšenie, vysokú rýchlosť písania, mechanickú stabilitu, presnosť umiestnenia a flexibilitu pre prácu s širokým spektrom materiálov a veľkostí substrátu. Ako ICTS integrovaná do siete MICRONANOFABS, NTC-UPV poskytuje služby mikro a nanofabrikácie výskumným skupinám národného a medzinárodného charakteru, spoločnostiam v rámci konkurzných projektov, zmlúv o technologickom prenose a poskytovaní pokročilých služieb. Zariadenie bude súčasťou vedeckej infraštruktúry centra a bude používané na vývoj národných a medzinárodných výskumných projektov, zmlúv o technologickom prenose so spoločnosťami a poskytovaní výrobných služieb interným a externým užívateľom. Táto podmienka singularnej infraštruktúry spoločného použitia vyžaduje udržanie aktualizovaných, robustných a výkonných nástrojov, ktoré sú v súlade so súčasným štátom umenia, v súlade s cieľmi PERTE Chip pre posilnenie národných kapacít v oblasti mikroelektroniky a fotoniky. Zmluva je preto nevyhnutná pre splnenie a realizáciu inštitucionálnych cieľov ICTS MICRONANOFABS-NTC, neexistujú vlastné prostriedky, ktoré by boli vhodné, dostatočné a dostupné na splnenie tejto potreby, v rámci vyžadovaní článku 28 LCSP.