Francúzsko – Elektromechanické zariadenia – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

CEA Leti, pre svoje výskumné aktivity, ktoré sa zameriavajú na vývoj technológií FDSOI 10nm a viac (FDSOI10), chce získať zařízení na gravírovanie FEOL/MEOL pre svoju čistú miestnosť. Zařízení bude schopné spracovať wafery s priemerom 300 mm a umožní vysokoselektívne a izotropné gravírovanie kremíka (Si) a kremíko-germania (SiGe). Zahrnuje nasledujúce povinné voľby: - Voľba 1: Proces 7 (gravírovanie spaceru SiCO) - Voľba 2: Proces 8 (gravírovanie spaceru a SADP) - Voľba 3: Úroveň 1 údržbové školenie A tiež náklady na voľby, ktoré nie sú povinné: - Voľba 4: Teplotné výmenníky (Heat exchangers) a chladiace systémy (chillers) (Sekcia 3.2.6) - Voľba 5: Elektrický transformátor (Power supply transformer) (Sekcia 4.1.4) - Voľba 6: Pokročilé údržbové školenie (Kapitola 9) - Voľba 7: Predbežné, korekčné údržbové služby a potrebné náhradní diely (Sekcia 12.2)