Nemecko – Laboratórne, optické a presné prístroje a vybavenie (s výnimkou skiel) – Chemisch-mechanische Poliermaschine

Friedrich-Schiller-Universität Jena zamýšľa pre svoju vedeckú činnosť nakúpiť chemicko-mechanický brúsny stroj (CMP) na brúsenie polovodičových a dielektrikových povrchov pre optické aplikácie. Musí byť vhodný pre vzorky veľkosti až po wafery (polovodičové platničky) s priemerom až do 100 milimetrov, dosahovať hrubosti menšie ako 1 nanometer (RMS hrubosť). Vznikajú tak nasledujúce minimálne požiadavky: pozri príloha 2. Zadávateľ si vyhľadáva ponúky s celkovou hodnotou objednávky vyššou ako 225 000,00 eur bez DPH z hodnotenia vylúčiť. Ak všetky ponúky prekročia túto hranicu, je zadávateľ oprávnený zrušiť výzvu.