Preskoči na vsebino
Nazaj na iskanje
To javno naročilo je poteklo.

Nizozemska – Laboratorijska, optična in precizna oprema (razen očal) – European Tender Electron Beam Lithography system

Universiteit TwenteNizozemskaObjavljeno dne 08. jul. 2026
Rok je pretekel

Opis

Univerza v Twente razpisuje nakup sistema za elektronno žarkovno litografijo. Inštitut MESA+ Univerze v Twente bo vlagal v nov sistem za elektronno žarkovno litografijo (e-beam sistem). Sistem, primeren za definiranje vzorcev v elektrončno občutljivih rezistih, z visoko ločljivostjo in visoko hitrostjo, kompatibilen z širokim razponom uporab in tipov substratov do 200 mm v premeru. Sistem bodo uporabljali različni uporabniki, to je akademski raziskovalci in študenti ter industrijski inženirji z različnimi ozadji (fotonika, (nano)-elektronika itd.) in različnimi ravmi izkušenj.

CPV kodi

Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)Electron-beam recorders

Dokumenti in oddaja

Povzetek AI
Prijavi se za povzetek AI

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Povezana naročila