Španija – Elektronska integrirana vezja in mikrosestavi – Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

Potreba za izvajanje dela raziskovalnega in razvojnega dela za Pilot Line UPV, s ciljem izboljšanja obstoječih naprednih pilotnih linij in razvoja novih po vsej Uniji, da omogočimo razvoj in razširitev tehnologij predvodnih polprevodnikov in tehnologij polprevodnikov naslednje generacije. V tem kontekstu je potrebno pridobiti, med drugim, naslednje opreme:

4 • UPV04 - Elektronski litografski stroj za ploščice do 8 palcev: Oprema za litografijo z elektronskim snopom, ki izpostavlja vzorce na občutljive rezistence z uporabo usmerjenega in skeniranega elektronnega snopa. Piše nanometrske značilnosti po zasnovi v digitalni datoteki. Posebej namenjen nanofabrikaciji, zlasti za maske in strukture v fotoniki, polprevodnikih in nanoteknologiji. • UPV13 – SEM: Oprema za preiskovanje površin z usmerjenim elektronskim snopom, ki daje slike z nanometrsko ločljivostjo. Omogoča pridobivanje morfoloških informacij in površinskega kontrasta, ter kontrasta, povezanega z razlikami v sestavi ali atomskem številu, v odvisnosti od dostopnih detektorjev in načinov slikanja. Posebej namenjen metrologiji, preverjanju procesa in kontroli kakovosti.

Primernost opreme temelji na njeni sposobnosti, da skupaj pokrije zahteve za nanofabrikacijo in metrologijo, potrebne za izdelavo pilotne linije fotonskih integriranih vezij. Ta sposobnost omogoča koordinacijo definicije parametrov izpostavljenosti in točk zanimanja za kasnejšo metrologijo, integracijo zunanjega post-procesnega SEM preverjanja in zagotavljanje sledljivosti in koherencije podatkov, generiranih med procesom izdelave.