Švedska – Industrijski stroji – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala si prizadeva za nakup globoko reaktivnega ionskega graverja (DRIE). Namena orodja je prenos vzorcev, določenih z na primer foto- in elektronskim žarkom litografijo, ki pokriva velikost vzorcev od vseh substratov do nekaj nanometrov. Sistem bodo uporabljali številni operaterji v univerzitetnem laboratorijskem okolju. Moral bi biti enostaven za uporabo in neobčutljiv na pogost menjavo procesa med skladi. Procesi vključujejo širok razpon možnosti graverja: nizka do visoka stopnja graverja, rezanje plošč, visoka enakomernost, visoka odprta površina, visok razmerje med odprtino in globino, ter nanometrska lika. Sistem je namenjen graverju silicija ter drugih materialov, združljivih z graverjem silicija, z obema fotorezistnimi smolami in trdimi maskami za vzorčenje.