Švedska – Industrijski stroji – Deep Reaction Ion Etcher (DRIE)

Myfab Uppsala namerava nakupiti globoko reaktivni ionski gravirnik (DRIE). Namena orodja je prenos vzorcev, definiranih na primer s foto- in elektronskim žarkom litografijo, ki pokriva velikost vzorcev od vseh podložkov do nekaj nanometrov. Sistem bodo uporabljali mnogi operaterji v univerzitetnem laboratorijskem okolju. Morajo biti enostavni za uporabo in odporni na pogoste spremembe procesa med partijami. Procesi vključujejo širok razpon gravirnih sposobnosti: nizka do visoka hitrost graviranja, rezanje plošč, visoka enakomernost, visoka odprta površina, visok razmerje med višino in širino ter nanometrski razmerje. Sistem je namenjen graviranju silicija in drugih materialov, kompatibilnih z graviranjem silicija, z obema fotorezistnima smolama in trdimi maskami za vzorčenje.