Francija – Elektromehanska oprema – Equipement de 300mm de gravure sélective Si-SiGe - Dry selective_SiSiGe_etching tool

CEA Leti, za svoje raziskovalne aktivnosti, ki se nanašajo na razvoj tehnologij FDSOI 10 nm in nad 10 nm (FDSOI10), želi pridobiti opremo za graviranje FEOL/MEOL za svojo čisto sobo. Oprema bo sposobna obdelovati waferje 300 mm in omogočati visoko selektivno in izotropno graviranje silicija (Si) in silicija-germanija (SiGe). Vključuje naslednje obvezne opcije: - Opcija 1: Process 7 (graviranje spacerja SiCO) - Opcija 2: Process 8 (graviranje spacerja in SADP) - Opcija 3: Nivo 1 vzdrževalna izobraževanje

Ter stroške volitvenih opcij: - Opcija 4: Izmenjevalniki toplote (Heat exchangers) in sistemi hlajenja (chillers) (Poglavje 3.2.6) - Opcija 5: Električni transformator (Power supply transformer) (Poglavje 4.1.4) - Opcija 6: Napredno vzdrževalno izobraževanje (Poglavje 9) - Opcija 7: Preventivne, popravilne in zamenjave potrebnih delov (Poglavje 12.2)