Nemčija – Laboratorijska, optična in precizna oprema (razen očal) – Chemisch-mechanische Poliermaschine

Friedrich-Schiller-Universität Jena namerava za svoje znanstveno delovanje nabaviti kemično-mehansko poliralno stroj (CMP) za poliranje polprevodniških in dielektričnih površin za optične namene. Morala bi biti primerna za vzorce velikosti do 100 milimetrov premera. Morala bi dosegla hrapavost manjše od 1 nanometra (RMS hrapavost). Iz tega izhajajo naslednje minimalne zahteve: glej priponka 2. Poverilnik si privačuje pravico izključiti ponudbe z večjim skupnim vrednostjo pogodbe od 225.000,00 evrov brez DDV. Če so vse ponudbe nad temi mejo, je poverilnik upravičena prekiniti razpis.