Nederländerna – Laboratorieutrustning, optisk utrustning och precisionsutrustning (exkl. glas) – European Tender Electron Beam Lithography system

Universitetet Twente utlyser anbud på inköp av ett elektronstrålelitografisystem. MESA+ Institutet vid Universitetet Twente kommer att investera i ett nytt elektronstrålesystem (e-beam-system). Ett system som är lämpligt för att definiera mönster i elektronkänsliga resist, med hög upplösning och hög hastighet, kompatibelt med ett brett spektrum av tillämpningar och substrattypen upp till 200 mm i diameter. Systemet kommer att användas av en bred användargrupp, det vill säga akademiska forskare och studenter liksom industriella ingenjörer med olika bakgrunder (fotonik, (nano)-elektronik etc.) och olika kunskapsnivåer.