Hoppa över till innehållet
Tillbaka till sökning

Spanien – Mikroelektroniska maskiner, apparater och mikrosystem – Suministro de sistema de grabado mediante haz iónico (Ion beam Etching - IBE)

Rectorado de la Universitat Politècnica de ValènciaSpanienPublicerad den 08 nov. 2026
2 dagar kvar

Beskrivning

Laget kommer att tilldelas den vetenskapliga och tekniska singulara infrastrukturen (ICTS) MICRONANOFABS, det spanska nätverket av vita rum för mikro- och nanofabrikation integrerat i den nationella kartan över ICTS hos det kompetenta ministeriet för vetenskap, vilket omfattar Mikro- och Nanofabrikationsinfrastrukturen vid Nanofotonikteknologicentret (NTC) vid Universitat Politècnica de València (UPV), tillsammans med Centro Nacional de Microelectrónica (CSIC) och Central de Tecnología del ISOM (UPM). Installationen kommer att placeras i det vita rummet i byggnad 8F på NTC-UPV. Nanofotonikteknologicentret utvecklar tillverkningsprocesser för integrerade fotoniska enheter, biosensorer, integrerad optik, kvantenheter, mikroelektromekaniska system (MEMS), mikrofluidiska strukturer och nanofotoniska system på en bred variation av material, inklusive silikon, silikonnitrid, glas, kvarts, material III-V, dielektriska material och hybrida strukturer. Som en ICTS integrerad i nätverket MICRONANOFABS erbjuder NTC-UPV tjänster för mikro- och nanofabrikation till nationella och internationella forskargrupper samt företag inom ramen för konkurrensprojekt, teknologioverföringskontrakt och avancerade tjänster. Denna roll som en singular infrastruktur för delad användning kräver att en instrumentutrustning som är uppdaterad, robust och med prestanda i linje med den senaste forskningen, som gör det möjligt att svara på både de egna forskningslinjerna och den externa efterfrågan från den vetenskapliga och industriella gemenskapen, i linje med PERTE Chip-målen för att stärka de nationella kapaciteterna för mikroelektronik och fotonik. Många av enheterna som tillverkas i infrastrukturen kräver fysiska etsningsprocesser med hög precision på material där konventionella kemiska etsningsprocesser (fuktiga) inte ger den nödvändiga ytkvaliteten, anisotropin eller selektivitet. Dessutom kräver den ökande komplexiteten av de utvecklade enheterna att processer som är högst reproducibla, med precis kontroll av strålningsinkidningsvinkeln, hög processstabilitet, automatisering och kontinuerlig övervakning.

CPV-koder

Microelectronic machinery and apparatus and microsystems

Dokument & inlämning

AI-sammanfattning
Logga in för en AI-sammanfattning

Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.

Liknande upphandlingar