Nederländerna – Laboratorieutrustning, optisk utrustning och precisionsutrustning (exkl. glas) – Sputtering Tool

**Omfång av kontraktet**

Omfången av detta kontrakt för **Sputtering tool** omfattar följande: För utförandet av högnivåvetenskaplig forskning inom **Zernike Institute for Advanced Materials** är tillgängligheten av ett avancerat sputterdepositionssystem av avgörande betydelse. Denna utrustning gör det möjligt att tillverka högkvalitativa tunnfilmer av ett brett utbud av material, inklusive metaller, legeringar och isolerande material. Sådana tunnfilmer är avgörande för ett brett spektrum av forskningsaktiviteter inom nanoteknik, materialvetenskap och funktionella system. Den avsedda sputteringanläggningen kommer att integreras i de befintliga anläggningarna i **Zernike Nanolab** och måste vara lämplig för användning i ett delat akademiskt forskningsmiljö. Systemet kommer att användas för både rutinaavsättningsprocesser och avancerade experiment som kräver en hög grad av processstabilitet, reproducerbarhet och materialrenhet. Detta kommer att möjliggöra utvecklingen och karakteriseringen av nya materialkombinationer, multilager och strukturer, vilket bidrar till det vetenskapliga utövarna och forskningsambitionerna hos institutet. Dessutom kommer sputteringanläggningen att spela en viktig roll i utbildning och träning av doktorander och studenter. Tillgång till moderna avsättningsutrustning gör det möjligt för användare att få praktisk erfarenhet av tunnfilmsteknik och vakuumprocesser, vilket stöder utvecklingen av teknisk och vetenskaplig expertis inom organisationen. Ett minimigarantiperiod på tre (3) år omfattar brister i material, arbetsförfarande och installation, inklusive delar och arbetskraft, samt tidsenlig fjärr- och på plats teknisk support vid utrustningsfel. Ett servicekontrakt på minst tre (3) år omfattar förebyggande underhåll, kalibrering, programvaruuppdateringar och teknisk support. Utbildning av användar- och tekniskt personal för säker och effektiv drift och grundläggande underhåll av systemet omfattas.