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Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieDeutschlandVeröffentlicht am 24. März 2026
Keine Frist angegeben
DeutschlandBeschreibung
Herstellung, Vertrieb und Service von Plasmaätzanlagen (RIE/ICP-RIE) für die Mikro- und Nanofabrikation. Genaueres entnehmen Sie bitte aus dem Lastenheft.
CPV-Codes
Mikroelektronische Maschinen und Geräte und MikrosystemeElektromechanische AusrüstungLaborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Unterlagen & Angebotsabgabe
KI-Zusammenfassung
Anmelden für KI-ZusammenfassungContains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.
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