Niederlande – Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser) – European Tender Electron Beam Lithography system

Die Universität Twente schreibt den Kauf eines Elektronenstrahl-Lithographie-Systems aus. Das MESA+ Institut der Universität Twente wird in ein neues Elektronenstrahl-System (e-Beam-System) investieren. Ein System, das sich für die Definition von Mustern in elektronenempfindlichen Resists bei hoher Auflösung und hoher Geschwindigkeit eignet, und das mit einer breiten Palette von Anwendungen und Substrattypen bis zu 200 mm Durchmesser kompatibel ist. Das System wird von einer breiten Palette von Nutzern verwendet, d.h. akademischen Forschern und Studenten sowie Ingenieuren aus der Industrie mit unterschiedlichen Hintergründen (Photonik, (Nano)-Elektronik usw.) und unterschiedlichen Erfahrungsebenen.