Spanien – Elektronische integrierte Schaltungen und Mikrobausteine – Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV

Die Vergabe, die Gegenstand des vorliegenden Verfahrens ist, ist erforderlich, um die Forschungs- und Entwicklungsarbeit für die Pilot Line der UPV durchzuführen, mit dem Ziel, die bestehenden fortschrittlichen Pilotlinien zu verbessern und neue in der gesamten Union zu entwickeln, um die Entwicklung und den Einsatz von Spitzen- und Next-Generation-Halbleitertechnologien zu ermöglichen. Zu diesem Zweck ist es erforderlich, unter anderem die folgenden Ausrüstungen zu erwerben:

4 • UPV04 - Electron beam lithography tool up to 8-inch wafers: Elektronenstrahllithographiegerät, das Muster in empfindlichen Resisten durch einen fokussierten und abgetasteten Elektronenstrahl belichtet. Es schreibt nanometrische Merkmale gemäß dem Design in einer digitalen Datei. Es ist für die Nanofabrikation, insbesondere für Masken und Strukturen in der Photonik, Halbleiter und Nanotechnologie, bestimmt.

• UPV13 – SEM: Oberflächeninspektionsgerät mit fokussiertem Elektronenstrahl, das Bilder mit nanometrischer Auflösung liefert. Es ermöglicht die Gewinnung morphologischer und oberflächlicher Kontrastinformationen sowie Kontrast, der mit Zusammensetzungs- oder Atomzahlunterschieden verbunden ist, je nach den verfügbaren Detektoren und Bildmodi. Es ist für Metrologie, Prozessinspektion, -validierung und Qualitätskontrolle bestimmt.

Die Eignung der Ausrüstung basiert auf ihrer Fähigkeit, die gemeinsamen Anforderungen an die Strukturierung und die dedizierte Metrologie zu erfüllen, die für die Herstellung in der Pilotlinie integrierter hybrider fotonischer Schaltungen erforderlich sind. Diese Fähigkeit ermöglicht es, die Definition der Belichtungspunkte und die Metrologiepunkte für die spätere Metrologie zu koordinieren, die externe postprozessuale SEM-Inspektion zu integrieren und die Rückverfolgbarkeit und Kohärenz der während des Herstellungsflusses erzeugten Daten zu gewährleisten.