Frankreich – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Acquisition d’une paillasse de gravure matériaux III-V pour le CEA de GRENOBLE

Für seine Forschungsaktivitäten möchte das CEA-LETI eine Ausrüstung, einen halbautomatischen Chemietisch für das Ätzen und Reinigen von III-V-Materialien auf Silizium-, Indiumphosphid (InP)- oder Galliumarsenid (GaAs)-Wafern mit Durchmessern von 100, 150, 200 und 300 mm für die Mikroelektronik, erwerben. Dieser Chemietisch ersetzt einen bereits bestehenden Chemietisch im Reinraum des LETI. Der vorgeschlagene Chemietisch muss daher die folgenden Abmessungen einhalten:

- Länge = 2500 mm

- Tiefe = 1700 mm

- Höhe = 2100 mm

Der Auftrag umfasst auch die folgenden optionalen, fakultativ zu veranschlagenden Optionen*:

- Option 1: Temperaturwechsler und Kühler (§3.2.6);

- Option 2: Netztransformatoren (§4.1.4);

- Option 3: Wartungsschulung 1. Ebene (§9);

- Option 4: Fortgeschrittene Wartungsschulung (§9);

- Option 5: Verlängerung der Garantie um ein weiteres Jahr (§11.1);

- Option 6: Bereitstellung eines Trockenkontakts, der das Öffnen des Abflussventils für H2SO4 oder H2SO5 anzeigt (§4.2.3);

- Der Preis für den Transport, einschließlich Versicherung, gemäß den Bedingungen DAP CEA Grenoble (Incoterms ICC 2020).