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Deutschland – Mikroelektronische Maschinen und Geräte – Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage

Technische Universität MünchenDeutschlandVeröffentlicht am 10. Juni 2026
Frist abgelaufen

Beschreibung

Eine Atomic-Layer-Deposition (ALD)-Anlage zur Durchführung von Forschungsarbeiten

CPV-Codes

Mikroelektronische Maschinen und Geräte

Unterlagen & Angebotsabgabe

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