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Alemania – Maquinaria, aparatos y microsistemas microelectrónicos – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieAlemaniaPublicado el 24 mar 2026
No se ha dado fecha límite
AlemaniaDescripción
Fabricación, distribución y servicio de instalaciones de grabado de plasma (RIE/ICP-RIE) para la micro y nanofabricación. Consulte los detalles en el programa de requisitos.
Códigos CPV
Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
Documentos y presentación
Resumen de IA
Inicia sesión para un resumen de IAContains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.
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