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Suiza – Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas) – Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
ETH Zürich - Abt. Procurement & Export ServicesSuizaPublicado el 01 oct 2026
32 días restantesDescripción
El Centro de Nanotecnología B & R (BRNC) de la ETH Zurich invita a licitar para la compra de un (1) sistema de litografía de haz de electrones de ultra-alta resolución (EBL). El sistema se utilizará para una variedad de actividades de investigación de usuarios internos y externos, desde la generación de estructuras de alta precisión a nivel nanométrico hasta la exposición rápida de estructuras complejas en grandes áreas. El alcance incluye la entrega, instalación, formación y aceptación del sistema.
Códigos CPV
Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
Documentos y presentación
Resumen de IA
Inicia sesión para un resumen de IAContains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.
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