Alemania – Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas) – Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS

La Universidad Ruhr de Bochum tiene la intención de adquirir una instalación de grabado DRIE que se utilizará en el laboratorio de investigación de microelectrónica de Bochum para sustratos de wafers de hasta 200 mm de diámetro. Se utilizará en el campo de los sistemas microelectromecánicos (MEMS) basados en silicio para la grabación anisotrópica profunda de silicio basada en un proceso de grabado cíclico (DRIE, "proceso BOSCH") y, además, servirá para la investigación de nuevos conceptos de grabado que utilicen gases de grabado menos perjudiciales para el clima.