Suiza – Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas) – Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité

La EPFL planea adquirir, en estrecha colaboración con la Universidad de Ginebra (UNIGE), una instalación de deposición por sputtering de alta tecnología, diseñada específicamente para la fabricación de capas delgadas superconductoras de alta calidad. La instalación se instalará y operará en el EPFL Center of MicroNanotechnology (EPFL CMi). El CMi es una instalación centralizada para la micro y nano-fabricación, que sirve a todas las facultades de la EPFL y está abierta tanto a universidades externas como a socios industriales locales (más de 600 usuarios activos por año). La nueva instalación se utilizará para la investigación de vanguardia en el campo de los detectores de fotones únicos, con el objetivo de cerrar la brecha entre la fabricación en el laboratorio y la producción industrial, permitiendo la deposición en wafers de 200 mm de diámetro. Se prestará especial atención no solo a la calidad de las deposiciones y las propiedades superconductoras de las capas delgadas, sino también a la facilidad de uso de las instalaciones, su fácil y rápida incorporación para nuevos usuarios, así como a su capacidad flexible, pero robusta, para el control del proceso en un entorno de I+D. También se valorará altamente la proximidad y la capacidad de respuesta del proveedor en cuanto al soporte técnico y la asistencia en el proceso. En consonancia con los requisitos de la EPFL, así como con los objetivos científicos del CMi y la UNIGE, se prestará especial atención a los siguientes puntos:

● Calidad, reproducibilidad y uniformidad de las capas delgadas superconductoras.

● Integración con nuestras infraestructuras.