Suède – Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) – Electron Beam Lithography (EBL) Tool

Lund University, Département de Physique, Lund Nano Lab acquiert un outil de lithographie par faisceau d'électrons. L'instrument est destiné à la gravure à haute résolution, répétable, équipé d'un grand champ d'écriture pour une gravure à haut débit, et des routines d'auto-calibration automatisées pour supporter les longues expositions avec des erreurs minimales dues à la dérive du faisceau. Enfin, son système de chargement d'échantillons flexible doit être configuré pour une large gamme d'échantillons, des petits morceaux utilisés pour la science de base, ou des plaquettes jusqu'à 8" de diamètre pour les tests de production pilote. Avec ces propriétés, l'outil de lithographie par faisceau d'électrons deviendra une partie centrale de l'infrastructure de fabrication du Lund Nano Lab et supportera une gamme d'applications telles que les dispositifs quantiques, l'électronique de haute puissance, les métasurfaces et plus encore. En plus de l'instrument, le marché doit inclure tous les coûts associés tels que la garantie, l'emballage, l'assurance, l'installation sur site, la mise en service, le FAT, le SAT, les droits et le transport, la formation, la documentation, le support, le développement/mises à jour logicielles, les frais sous l'Ordonnance sur la responsabilité du producteur pour l'emballage (2022:1274) etc.