Svájc – Laboratóriumi, optikai és precíziós felszerelések (kivéve szemüvegek) – Un système XPS de pointe équipé d'une source UV pour l'UPS, d'un canon à ions monoatomiques et d'un canon à agrégats gazeux pour le profilage en profondeur
Description
Das Institut für Chemische Wissenschaften und Ingenieurwesen (ISIC) der Eidgenössischen Technischen Hochschule Lausanne (EPFL) beabsichtigt, ein hochmodernes XPS-System zu beschaffen, das mit einer UV-Quelle für UPS, einer monoatomaren Ionenquelle und einer Gasclusterquelle für die Tiefenprofilierung ausgestattet ist. Das Gerät wird im offenen Zugang betrieben und dient rund 40 Forschungsgruppen, hauptsächlich vom ISIC und vom Institut für Materialwissenschaft und -technik (IMX), sowie weiteren Nutzern aus der gesamten EPFL. Angesichts dieses offenen, multi-nutzerorientierten Umfelds sind eine einfache Bedienung der Hard- und Software, ein geringes Fehlbedienungsrisiko, begrenzte Messartefakte sowie ein schneller und effizienter Nutzerwechsel daher zentrale Voraussetzungen. Aufgrund der grossen Vielfalt der an der EPFL durchgeführten Forschung sollte das gewählte Gerät ein breites Funktionsspektrum unterstützen. Es sollte weder auf einen bestimmten Messtyp beschränkt sein, noch den Weg für künftige Erweiterungen und Weiterentwicklungen.
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