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Allemagne – Machines et appareils microélectroniques et microsystèmes – Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der MaterieAllemagnePublié le 24 mars 2026
Aucun délai donné
AllemagneDescription
Fabrication, distribution et service d'installations de gravure plasma (RIE/ICP-RIE) pour la micro- et nanofabrication. Pour plus de détails, veuillez consulter le cahier des charges.
Codes CPV
Microelectronic machinery and apparatus and microsystemsElectromechanical equipmentLaboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
Documents et soumission
Résumé AI
Connectez-vous pour un résumé AIContains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.
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