Pays-Bas – Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) – European Tender Electron Beam Lithography system

L'Université de Twente lance un appel d'offres pour l'achat d'un système de lithographie par faisceau d'électrons. L'Institut MESA+ de l'Université de Twente investira dans un nouveau système de faisceau d'électrons (système e-beam). Un système, adapté pour définir des motifs dans des résines sensibles aux électrons, à haute résolution et à haute vitesse, compatible avec une large gamme d'applications et de types de substrats jusqu'à 200 mm de diamètre. Le système sera utilisé par une large gamme d'utilisateurs, c'est-à-dire des chercheurs académiques et des étudiants ainsi que des ingénieurs industriels ayant différents profils (photonique, (nano)-électronique, etc.) et différents niveaux d'expertise.