Suisse – Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) – Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
SuisseDescription
Le Centre de Nanotechnologie B & R (BRNC) de l'ETH Zurich invite les soumissionnaires à soumettre des offres pour l'achat d'un (1) système de lithographie par faisceau d'électrons (EBL) à ultra-haute résolution. Le système sera utilisé pour diverses activités de recherche d'utilisateurs internes et externes, allant de la génération de structures de haute précision au niveau nanométrique à l'exposition rapide de structures complexes sur de grandes surfaces. Le domaine d'application comprend la livraison, l'installation, la formation et l'acceptation du système.
Codes CPV
Documents et soumission
Contains data from Tenders Electronic Daily (TED), © European Union, ted.europa.eu — CC BY 4.0.
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