Allemagne – Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes) – Ätzanlage zum tiefen Silicium-Ätzen für MEMS
AllemagneDescription
La Ruhr-Universität Bochum envisage d'acquérir une installation de gravure DRIE qui sera utilisée dans le laboratoire de recherche en microélectronique de Bochum pour des substrats de tranches jusqu'à 200 mm de diamètre. Elle sera utilisée dans le domaine des systèmes micro-électro-mécaniques (MEMS) à base de silicium pour la gravure anisotrope profonde du silicium sur la base d'un processus de gravure cyclique (DRIE, "procédé BOSCH") et servira en outre à la recherche de nouveaux concepts de gravure utilisant des gaz de gravure moins dommageables pour le climat.
Codes CPV
Documents et soumission
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